香港---行政xrd薄膜检测-半导体xrd薄膜测试_广州其他分类

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xrd薄膜检测xrd残余应力检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

如何在origin上标记xrd图上的星号

1、选中卡片，然后双击-->;弹出的文本框即为标准卡片信息，xrd薄膜检测分析，从中可以看到晶面间距d，晶面指数（hkl）以及标准衍射峰位2 theta等信息-->;选中export，可以将标准卡片中的信息导出为txt文件。

2、从txt中找到标准谱图所需要的信息：2 theta和i(f)值，然后将其copy到origin里面，设置2theta 为x轴数据，i(f)为y轴数据，如图2所示

3、选中a(x1)和b(y1)做折线图，并对谱图进行优化（线粗细：3.0，类型：b-spline; 坐标轴线粗细：3.0，字体大小：28），得到zno的xrd谱图

4、---菜单栏中graph-->;new layer(axe) -->;(linked) top x + right y，添加新图层。然后右键---“图层2”-->; layer content，将d(y2)添加为layer content

5、双击图层2中所出现的折线图，在弹出的plot o details菜单中，将plot type改为 scatter; ---右侧菜单中drop lines选项，勾选vertical，同时将线宽调整为3；再---symbol选项，将size改为0

6、调整图层2的横坐标范围，使横轴范围与图层1一致；调整图层2的纵坐标范围，让标准卡片处于适合的位置；美化谱图，xrd薄膜检测测试，然后在图中注明标准卡片的编号

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实验条件

●限定照射面积

?通过狭缝、准直管来---入射光束或通过遮挡的方法来---照射面积

●测点位置设定

?对于一个实际试样，应根据应力分析的要求，结合试样的加工工艺、几何形状、工作状态等综合考虑，确定测点的分布和待测应力的方向。

?校准试样位置和方向的原则为:

(a)测点位置应落在测角仪的回转中心上；

(b)待测应力方向应处于平面以内；

(c)测角仪ψ=0°位置的入射光与衍射光之中线应与待测点表面垂直。

●在常规x射线衍射分析中，选择正确的测试参数，目的是获得完整且光滑的衍射谱线。

●x射线应力测试，除满---上要求外，还必须考虑诸如角设置、辐射波长、衍射晶面以及应力常数等因素的影响。

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由于材料存在织构，其sin2ψ曲线呈震荡型，选取的ψ角范围不同，得到的拟合直线的斜率和残余应力存在明显差异。在未知材料是否存在织构、晶粒是否粗大的情况下，香港---行政xrd薄膜检测，不可选取较小的ψ范围和较少的ψ站数进行残余应力测定，否则会带来较大的测量误差。

对于sin2ψ曲线呈震荡型的织构材料，采用线性拟合未必是合理的，实际测量过程中，人们通常采用线性拟合的方式对这种震荡和测量误差引起的波动进行处理。关于ψ的范围，大达45°也未必合理，如果可以忽略穿透---的影响，采用的ψ角会更有利于获得较为正确的结果。

对于粗晶粒材料或存在织构的材料而言，xrd薄膜检测多少钱，尽量扩大ψ角的设置范围，可以通过±ψ角的测量来消除ε-sin2ψ非线性分布的影响。对于小二乘法拟合回归直线而言，若自变量的间距越大(ψ范围越大)，测量的数据越多(ψ站数越多)，则拟合所得到的直线的准确度越高，测试得到的数值就越---。也可以通过增加x射线的照射面积，或是采用摆动法增加参与衍射晶粒的数量来提高测试精度。

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