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二次粒子质谱是借助入射粒子的轰击功能，将样品表面原子溅出，xrd倒易空间（rsm）检测分析，由质谱仪测定二次粒子，根据质谱峰位的数，可以确定二次离子所属的元素和化合物，从而可测定表面元素的组成。这是一种常用的表面分析技术。其特点是高灵敏度和高分辨率。
利用二次离子质谱对掺杂元素的---灵敏度的特点，对样品的注入条件进行分析，在生产中可以进行离子注入机台的校验，并确定新机台的可以投入生产。同时，二次离子质谱对于cvd沉积工艺的监控尤其是硼磷元素的分布和生长比率等方面有的作用。通过二次离子质谱结果的分析帮助cvd---进行生长条件的调节，确定沉积工艺条件。对于杂质污染的分析，可以对样品表面结构和杂质掺杂情况进行详细了解，---芯片的有源区的洁净生长，对器件的电性及---性起到---的作用。对掺杂元素退火后的形貌分析研究发现通过改变掺杂元素的---分布，来---器件的电学性能达到设计要求。可以帮助ltd进行新工艺的研究对于90nm/65nm/45nm新产品开发起到很大作用。
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●应力常数
?晶体中普遍存在各向---，不同晶向具有不同弹性模量，如果利用平均弹性模量来求解x射线应力常数，势必会产生一定误差。
?对已知材料进行应力测定时，可通过查表获取待测晶面的应力常数。
?对于未知材料，只能通过实验方法测定其应力常数。
3) 数据处理
●采集到---的原始衍射数据后，还必须经过一定的数据处理及计算，终才能获得---的应力数值。
数据处理包括:
?衍射峰形处理
?确定衍射峰位
?应力计算及误差分析
目前计算机已十分普及，许多复杂数学计算都变得容易，给数据处理工作带来方便。
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由于材料存在织构，其sin2ψ曲线呈震荡型，选取的ψ角范围不同，得到的拟合直线的斜率和残余应力存在明显差异。在未知材料是否存在织构、晶粒是否粗大的情况下，不可选取较小的ψ范围和较少的ψ站数进行残余应力测定，否则会带来较大的测量误差。
对于sin2ψ曲线呈震荡型的织构材料，采用线性拟合未必是合理的，实际测量过程中，人们通常采用线性拟合的方式对这种震荡和测量误差引起的波动进行处理。关于ψ的范围，大达45°也未必合理，如果可以忽略穿透---的影响，xrd倒易空间（rsm）检测机构，采用的ψ角会更有利于获得较为正确的结果。
对于粗晶粒材料或存在织构的材料而言，尽量扩大ψ角的设置范围，可以通过±ψ角的测量来消除ε-sin2ψ非线性分布的影响。对于小二乘法拟合回归直线而言，若自变量的间距越大(ψ范围越大)，测量的数据越多(ψ站数越多)，则拟合所得到的直线的准确度越高，测试得到的数值就越---。也可以通过增加x射线的照射面积，或是采用摆动法增加参与衍射晶粒的数量来提高测试精度。
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