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热波系统
---系统主要用来测量掺杂浓度。热波系统通过测量---在硅片上同一点的两束激光在硅片表面反射率的变化量来计算杂质粒子的注入浓度。在该系统内,一束激光通过气激光器产生加热的波使硅片表面温度升高,热硅片会导致另一束---激光的反射系数发生变化,这一变化量正比于硅片中由杂质粒子注入而产生的晶体缺陷点的数目。由此,测量杂质粒子浓度的热波可以将晶格缺陷的数目与掺杂浓度等注入条件联系起来,单晶xrd检测服务,描述离子注入工艺后薄膜内杂质的浓度数值
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二次粒子质谱是借助入射粒子的轰击功能,将样品表面原子溅出,由质谱仪测定二次粒子,单晶xrd检测,根据质谱峰位的数,可以确定二次离子所属的元素和化合物,从而可测定表面元素的组成。这是一种常用的表面分析技术。其特点是高灵敏度和高分辨率。
利用二次离子质谱对掺杂元素的---灵敏度的特点,对样品的注入条件进行分析,在生产中可以进行离子注入机台的校验,并确定新机台的可以投入生产。同时,单晶xrd检测多少钱,二次离子质谱对于cvd沉积工艺的监控尤其是硼磷元素的分布和生长比率等方面有的作用。通过二次离子质谱结果的分析帮助cvd---进行生长条件的调节,确定沉积工艺条件。对于杂质污染的分析,可以对样品表面结构和杂质掺杂情况进行详细了解,---芯片的有源区的洁净生长,对器件的电性及---性起到---的作用。对掺杂元素退火后的形貌分析研究发现通过改变掺杂元素的---分布,来---器件的电学性能达到设计要求。可以帮助ltd进行新工艺的研究对于90nm/65nm/45nm新产品开发起到很大作用。
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对于有色冶炼企业来说,原料成分的稳定性---,它会对几乎所有工序的生产稳定性产生影响,因此,在预均化堆场、原料磨配料控制等工艺中,矿石成分的分析是的,目前大多数生产企业采用人工取样+实验室分析的方案,在取样、制样和分析过程中会耗费大量的人力物力,而且会带来分析时效滞后和人为误差影响两大难题,很难发挥调整生产的作用。
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