重庆xrd晶粒尺寸检测-半导体xrd测试电话_广州其他分类

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xrd晶粒尺寸检测xrd残余应力检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

如何在origin上标记xrd图上的星号

1、选中卡片，然后双击-->;弹出的文本框即为标准卡片信息，从中可以看到晶面间距d，晶面指数（hkl）以及标准衍射峰位2 theta等信息-->;选中export，可以将标准卡片中的信息导出为txt文件。

2、从txt中找到标准谱图所需要的信息：2 theta和i(f)值，xrd晶粒尺寸检测测试，然后将其copy到origin里面，xrd晶粒尺寸检测多少钱，设置2theta 为x轴数据，i(f)为y轴数据，如图2所示

3、选中a(x1)和b(y1)做折线图，并对谱图进行优化（线粗细：3.0，类型：b-spline; 坐标轴线粗细：3.0，字体大小：28），重庆xrd晶粒尺寸检测，得到zno的xrd谱图

4、---菜单栏中graph-->;new layer(axe) -->;(linked) top x + right y，添加新图层。然后右键---“图层2”-->; layer content，将d(y2)添加为layer content

5、双击图层2中所出现的折线图，在弹出的plot o details菜单中，将plot type改为 scatter; ---右侧菜单中drop lines选项，勾选vertical，同时将线宽调整为3；再---symbol选项，将size改为0

6、调整图层2的横坐标范围，xrd晶粒尺寸检测机构，使横轴范围与图层1一致；调整图层2的纵坐标范围，让标准卡片处于适合的位置；美化谱图，然后在图中注明标准卡片的编号

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残余应力及其产生

1. 类内应力

在较大的材料区域(很多个晶粒范围）内几乎是均匀的。与第ⅰ类内应力相关的内力在横贯整个物体的每个截面上处于平衡。与相关的内力矩相对于每个轴同样抵消。当存在的物体的内力平衡和内力矩平衡遭到破坏时会产生宏观的尺寸变化。

2.第二类内应力

在材料的较小范围（一个晶粒或晶粒内的区域)内近乎均匀。与相联系的内力或内力矩在足够多的晶粒中是平衡的。当这种平衡遭到破坏时也会出现尺寸变化。

3.第三类内应力

在的材料区域（几个原子间距）内也是不均匀的。与相关的内力或内力矩在小范围(一个晶粒的足够大的部分）是平衡的。当这种平衡破坏时，不会产生尺寸的变化。

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xrd即x-raydiffraction的缩写，x射线衍射，通过对材料进行x射线衍射，分析其衍射图谱，获得材料的成分、材料内部原子或分子的结构或形态等信息的研究手段。x射线是一种波长很短(约为20～0.06埃)的电磁波，能穿透一定厚度的物质，并能使荧光物质发光、照相乳胶感光、*体电离。在用电子束轰击金属“靶”产生的x射线中，包含与靶中各种元素对应的具有特定波长的x射线，称为特征（或标识）x射线。

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