xrd晶粒尺寸检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,xrd晶粒尺寸检测实验室,主要---半导体产业发展的应用技术研究,---重大技术应用的基础研究,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。
电子衍射和 xrd的区别
电子衍射是二维衍射和 xrd 是一维衍射,电子衍射和xrd的基本原理和衍射花样的几何特征相似,而且都遵循劳厄方程或布拉格方程。两者区别包括:
(1) 电子波的波长短,则受物质散射强(原子对电子的散射能比 x 射线强一万倍);
(2) 电子衍射强度大,要考虑它们之间的相互作用,使电子衍射花样分析,xrd晶粒尺寸检测平台,---是强度分析变得复杂,不能像 x射线一样从测量强度来广泛地测定晶体结构;
(3) 由于电子衍射强度高导---子穿透能力有限,因此较使用于研究微晶、表面和薄膜晶体;
(4) 当晶粒大小只有几微米,甘肃xrd晶粒尺寸检测,甚至几千埃的时候,不建议用 xrd 。
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掠入射xrd技术是一种用于材料表征和结构分析的xrd技术。它是通过将x射线的入射角度调整到非常小的角度(通常小于1度)来实现的。这样做可以使x射线与样品表面的交互作用化,从而获得更详细的结构信息。由于掠入射xrd技术所使用的角度非常小,因此它需要特殊的仪器和样品制备方法,以便进行实验。
掠入射xrd技术在材料科学中有许多应用,例如晶体生长、薄膜制备、界面化学、表面催化和生物材料等领域。其中,薄膜制备是掠入射xrd技术的主要应用之一。掠入射xrd技术可以用来研究薄膜的结构、晶格取向、纳米结构等特性。通过这种方法,可以确定薄膜的晶体结构和缺陷结构,并且可以帮助优化薄膜的性能。
掠入射xrd技术还可以用于表面化学和催化研究。表面催化是一种重要的反应方式,它通过催化剂表面上的活性位点来促进化学反应。掠入射xrd技术可以帮助研究催化剂表面的结构和催化剂与反应物之间的相互作用。这对于优化催化剂的性能和理解化学反应机理非常重要。
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应力计算
?读入原始数据文件,或按ψ角由小到大的顺序读入5个独立文件
?作---的图谱平滑处理
?选择calculate stress
?在每个数据行的ψ列下单击,输入不同的ψ值;
?在e=和υ=位置分别输入样品的弹性模量和泊松比;
?按“fit all按钮,拟合全部ψ角下的曲线;
?在窗口下端显示样品的残余应力:
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