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    2023-3-22

王小姐
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请问知道晶体的结构和晶格参数能模拟它的 x 衍射谱线吗?

xrd 衍射强度和峰的宽度与样品颗粒大小,还是与晶体颗粒大小有关?

样品中晶粒越小,衍射峰的峰高强度越来越低,半导体xrd检测多少钱,但是峰越来越宽,实际上利用 x 射线衍射峰的宽化对样品的结晶颗粒度分析就是根据这个原理的(scherrer公式)。

晶粒大小和颗粒大小有关系,但是其各自的含义是有区别的。一颗晶粒也可能就是一颗颗粒,但是更可能的情况是晶粒抱到一起,二次---,成为颗粒。颗粒不是衍射的基本单位,但是微小的颗粒能产生散射。你磨的越细,散射就越强。对于晶粒, 你磨过头了, 晶体结构被破坏了, 磨成非晶,半导体xrd检测平台, 衍射能力就没有了。磨得太狠的话,有些峰可能要消失了,而且相邻较近的衍射峰会由于宽化而相互叠加,终会变成1 个或几个鼓包。一般晶面间距大的峰受晶粒细化的影响会明显一些,因d值大的晶面容易被破坏。






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薄膜应力作为半导体制程、mems微纳加工、光电薄膜镀膜过程中性能测试的必检项,其测试的精度、重复性、效率等因素为业界所重点关注。对应产品目前业界有两种主流技术流派:1)以美国fsm、kla、toho为代表的双激光波长扫描技术(线扫模式),尽管是上世纪90年代技术,但由于其简单,适合常规fab制程中进行快速qc,至今仍广泛应用于相关工厂。2)以美国ksa为代表的mos激光点阵技术,抗环境振动干扰,精于局部区域内应力测量,这在研究局部薄膜应力均匀分布具有特定意义。线扫模式主要测量晶圆薄膜整体平均应力,监控工序工艺的重复性有意义。但在监控或精细分析局部薄膜应力,激光点阵技术具有特殊优势,比如在mems压电薄膜的应力和缺陷监控。


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做钴酸锂 xrd 衍射实验时,在 x 衍射仪上做出的衍射图片,个衍射峰---高,其他的衍 射峰---低,不成比例,是仪器本身的原因,还是发生了择优取向,请各位---指点。

不知你是用钴酸锂粉末做的实验,贵州半导体xrd检测,还是多晶膜等?如果是粉末,那可能就是择优取向了。

化学沉淀法从氨氮废水中结晶出磷酸铵镁,xrd 与标准 jcpds 相比衍射峰有规律向左偏移,这表达什么晶体结构的信息啊?

如果各峰的偏移基本上是一个固定值,原因是 2θ零位不正确;样品平面后仰;组成偏离化学式,未知的偏离导致晶格变大了一些。

 用 jade5 软件可以进行 xrd 定量分析吗?

xrd定量分析的基础数据是样品中各组成物相的强度数据(原理上应该用峰的面积数据), 余下的工作便是些乘除比例的运算了,使用表格软件(如 wps ofice 的wps 表格、微软的excel)完成甚为方便。因此,使用任一能够获得峰面积或峰高的软件工具都可以进行xrd定量分析,当然,有jade 软件更为方便。






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